Made O'Meter
Discover where a brand or product originates
Runway, a menudo referido como RunwayML, es una plataforma pionera en el campo de la inteligencia artificial aplicada, enfocándose específicamente en herramientas creativas para la generación de video e imagen. Fundada en 2018, la compañía ha desempeñado un papel significativo en la democratización de efectos visuales de alta gama y AI generativa, notablemente a través de sus contribuciones de investigación a modelos como Stable Diffusion y sus propios modelos patentados Gen-1, Gen-2 y Gen-3 Alpha.
Originalmente concebido como una herramienta para que artistas y creadores experimenten con el aprendizaje automático sin necesidad de habilidades de codificación técnica profundas, Runway ha evolucionado a una suite integral basada en la web. Ofrece características como texto a video, imagen a video y capacidades avanzadas de edición de video como eliminación de fondo verde y seguimiento de movimiento. La plataforma opera principalmente como un modelo de Software como Servicio (SaaS), con su infraestructura y desarrollo central en los Estados Unidos.
La marca sigue bajo la propiedad de su empresa fundadora, Runway AI, Inc. Ha asegurado exitosamente una financiación de capital de riesgo significativa de importantes inversores tecnológicos, posicionándose como líder en el espacio de AI generativa. Con sede en la ciudad de Nueva York, la compañía continúa empujando los límites de la IA multimodal, sirviendo tanto a creadores individuales como a grandes estudios de producción profesional a nivel mundial.
Report a bug/Feedback
disclaimer
poweredBy