Made O'Meter
Discover where a brand or product originates
Runway, ofte omtalt som RunwayML, er en banebrydende platform inden for anvendt kunstig intelligens, der specifikt fokuserer på kreative værktøjer til video- og billedgenerering. Virksomheden blev grundlagt i 2018 og har spillet en væsentlig rolle i demokratiseringen af avancerede visuelle effekter og generativ AI, især gennem sine forskningsbidrag til modeller som Stable Diffusion og sine egne proprietære Gen-1, Gen-2 og Gen-3 Alpha modeller.
Oprindeligt tænkt som et værktøj for kunstnere og skabere til at eksperimentere med maskinlæring uden at skulle have dybe tekniske kodningsfærdigheder, er Runway udviklet til en omfattende webbaseret suite. Den tilbyder funktioner som tekst-til-video, billede-til-video, og avancerede video redigeringsmuligheder såsom grön skærm fjernelse og bevægelsessporing. Platformen fungerer primært som en Software-as-a-Service (SaaS) model, med sin infrastruktur og kerneudvikling baseret i USA.
Brandet er fortsat under ejerskab af sit grundlæggende selskab, Runway AI, Inc. Det har med succes sikret betydelig venturekapitalfinansiering fra store teknologiinvestorer, hvilket positionerer det som en leder inden for generativ AI. Med hovedkontor i New York City fortsætter virksomheden med at presse grænserne for multimodal AI og betjener både individuelle skabere og store professionelle produktionsstudier globalt.
Report a bug/Feedback
disclaimer
poweredBy